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半導体製造の8つの工程(2) ウェハ表面を覆う保護膜を作る「酸化工程」 | TECH+(テックプラス)
4インチsio2二酸化ケイ素ウェーハ/抵抗率0.001 0.005オーム*センチメートル/シングル酸素/シリコンウエハ厚さ500um|resistance ohm|ohms resistanceresistance 50 ohms - AliExpress
成膜工程 | 株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ
300mmシリコンウェットまたはドライ熱酸化/二酸化ウェーハ(Si + SiO2)– Powerwayウェーハ
3インチsio2二酸化ケイ素ウェーハ/抵抗率0.001 0.005オーム*センチメートル/モデル=シングル酸素/シリコンウエハ厚さ400um|resistance ohm|ohms resistancewafer silicon - AliExpress
アイテス ウェハー成膜加工のご案内(内容を選ぶ) | 株式会社アイテス
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ウェハ直描加工 | 東洋精密工業株式会社 | 半導体/MEMS/ディスプレイのWEBEXHIBITION(WEB展示会)による製品・サービスのマッチングサービス SEMI-NET(セミネット)
膜付きウェーハ|株式会社アドバンテック
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シリコン酸化ウエハ2/ 4/ 6インチSiO2片面研磨両面酸化片面酸化| | - AliExpress
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窒化処理シリコンウェハー製 - Nitride layer (Si3N4) - Sil'Tronix Silicon Technologies - 2 inch (50 mm) / 6 inch (150 mm) / 窒化ケイ素製
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セーレンKST株式会社
6インチsio2二酸化ケイ素ウェーハ/抵抗率1 10オーム*センチメートル/モデル= doule酸素/シリコンウエハ厚さ675um|ohms resistance|wafer siliconthick models - AliExpress
ウエハ(ウエーハ)|セラミック・ウエハ|製品情報|千代田交易株式会社
オーシャンインサイト :: 製品 :: 薄膜リファレンスウェハ
恋する半導体(セミコイ)「熱酸化膜編」 | 株式会社アイテス
SOIウェハのカスタマイズ | 株式会社エレクトロニクスエンドマテリアルズコーポレーション
学位論文要旨詳細
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